一、设备用途及工艺条件简述
1.1、设备用途：石英溶液在氩气保护中的保温和缓冷，以生成多晶硅晶体。
1.2、坩埚尺寸：880×880×480mm,结晶后液面高度400mm，坩埚地面离地面700mm。
1.3、典型工艺：（1）空炉升温至1100℃，对坩埚进行预热，同时预热炉膛。
（2）升起上炉体，将坩埚移出接料（料台和坩埚一同移出）。
（3）坩埚和炉体复位，30min内将炉温升到1450℃。
（4）向炉膛内通入氩气、排除空气，防止石英液面氧化。
（5）坩埚顶部温度保持1450℃，底部缓慢降温到1300℃。
（6）使用条件：设备周围无导电尘埃和易燃、易爆气体，相对湿度≤85%， 供电容量60KVA。
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