KSX1700Q系列真空炉产品用途介绍
本系列产品，额定温度分别为1650℃，使用硅碳棒为加热元件，型号齐全，安全可靠，同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造，适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备。
KSX1700系列真空炉详细介绍
1、炉外壳采用双层炉壳结构，双层炉壳之间通循环冷却水，可以有效的降低炉壳表面温度低。
2、炉门采用高温硅橡胶密封，炉体上有进气口、出气口、抽真空口。
3、炉膛材料采用优质的进口氧化铝多晶纤维真空吸附制成，节能50%，加热元件采用康泰尔电阻丝。
4、电炉温度控制系统采用人工智能调节技术，具有PID调节、模糊控制、自整定能力并可编制各种升温程序等功能，该控制系统温度显示精度为1℃，温场稳定度±5℃，升温速率1~20℃可任意设置。
5、可以通氢气、氩气、氮气等其他气体，并能预抽真空，真空度可以达到1MPa，气氛压力可以达到0.1Mpa,炉体采用厚钢板加工而成，安全可靠，符合国家标准