成仪PECVD系统(PE-12100C)
PECVD系统就是为了使传统的化学气象沉积（CVD）反应温度降低，在普通CVD装置的前端加入RF射频感应装置将反应气体电离，形成等离子体，利用等离子体的活性来促进反应，所以这个系统称为增强型化学气相沉积系统（PECVD）。
该型号PECVD为成仪最新款，综合了国内大多数厂家的管式PECVD系统的优点，在PECVD前端加入了气体预热区，实验证明此结构沉积速度快，成膜质量好，针孔较少，不易龟裂。而且控制部分采用了成仪自主研发的实验电炉AIO全自动智能控制系统，使得操作更加简便，功能更加强大。
主要特点：
1. 气体预热——增加前端气体预热区，沉积速度更快，成膜效果更好；
2. AIO控制系统——加热控制、等离子射频控制、气体流量控制、真空系统控制集中于一个7英寸触摸屏进行统一集中调节和操控，协调控制——成 仪AIO控制系统；
3. 管内压力自动平衡——管内压力实时监测，自动平衡管内压力。
4. 智能气路通断——每路气体均可定时通断，省时省力；
5. 射频功率和开关定时控制——预先设定好功率的大小和打开与关闭的时间，自动运行；
6. 炉膛移动速度可调——根据实验要求，用户可设定炉膛左右移动的速度可距离；
7. 整机结构融为一体——移动方便，避免分散组装的困扰。
技术参数：
1 | 加热炉部分 |
2 | 炉膛模式 | 开启式炉膛 |
3 | 显示模式 | 触摸屏 |
4 | 极限温度 | 1400℃ |
5 | 工作温度 | ≤1350℃ |
6 | 升温速率 | 建议10℃/Min Max：30℃/Min |
7 | 加热温区 | 3温区 |
8 | 单温区长度 | 150 MM |
9 | 炉管规格 | 100*2000 MM |
10 | 控温精度 | ±1℃ |
11 | 密封方式 | 快速法兰密封 |
12 | 温度曲线 | 30段"时间—温度曲线"任意可设 |
13 | 预存曲线 | 可预存15条温度曲线 |
14 | 超温报警 | 有 |
15 | 过流保护 | 有 |
16 | 断偶提示 | 有 |
17 | 测温元件 | s型热电偶 |
18 | 炉膛材料 | 氧化铝纤维 |
19 | 设备规格（长*宽*高） | 2600*860*1400MM |
1 | 射频电源功率 |
2 | 信号频率 | 13.56 MHz±0.005% |
3 | 功率输出范围 | 5W-300W |
4 | 功率稳定度 | ±0.1% |
5 | 谐波分量 | ≤-50dbc |
6 | 供电电压 | 单相交流（187V-253V） 频率50/60HZ |
7 | 整机效率 | >=70% |
8 | 功率因素 | >=90% |
9 | 冷却方式 | 强制风冷 |
10 | 真空部分 |
11 | 工作电电压 | 220V±10% 50~60HZ |
12 | 功率 | 500W |
13 | 抽气速率 | 6Ls |
14 | 进气口口径 | KF25 |
15 | 排气口口径 | KF25 |
16 | 转速 | 1450rpm |
17 | 噪音 | 55dB |
18 | 极限真空 | 4X10-2Pa |
| 气路系统 |
1 | 1,2气路采用DB07K系列
准确度：±1.5% 重复精度：±0.2% 响应时间：气特性：1～4 Sec，电特性：10 Sec 工作压差范围：0.1～0.5 MPa |
2 | 3路采用高精度CS200系列 准确度：±0.35%FS ±1.0%SP 线性：±0.5%FS 重复精度：±0.2%FS 响应时间：气特性：1Sec |
1 | 整机系统特色 |
2 | 正压测量 | -100Kpa---100Kpa |
3 | 真空测量 | ![]() -100Kpa（支持Ar测量）
|
4 | 正压保护 | 支持 |
5 | 压力恒定 | 支持 |
6 | 智能气路 | 支持 |
7 | 气路定时 | 支持 |
8 | 射频工作时间设定 | 支持 |
9 | 移动速度调节 | 支持 |
10 | 系统真空度 | 5Pa |